特許

J-GLOBAL ID：200903015954311379

薬液濃度制御装置

発明者： 田北 進哉
出願人/特許権者： 九州日本電気株式会社
代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-353144
公開番号（公開出願番号）：特開2000-183017
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】 薬液をサンプリングせずに薬液組成の測定及び組成制御を常時行うことが可能な薬液濃度制御装置を提供する。【解決手段】 原液を供給するための原液供給部1と、この原液供給部1から供給された原液を使用してウェハー12に対して所定の処理を行うウエハー処理部2とを有する薬液濃度制御装置であって、原液供給部1とウエハー処理部2との間に設けられた配管14に直接設置され、かつ配管14内を通る原液の濃度を検出するための濃度検出部15と、この濃度検出部15により検出された原液濃度に基づいて所定の濃度調整を行い、原液供給部1から供給される原液の濃度を制御するデータ処理部3とを有する。

請求項（抜粋）：

原液を供給するための原液供給部と、この原液供給部から供給された原液を使用してウェハーに対して所定の処理を行うウエハー処理部とを有する薬液濃度制御装置において、原液供給部とウエハー処理部との間に設けられた配管に直接設置され、かつ配管内を通る原液の濃度を検出するための濃度検出部と、この濃度検出部により検出された原液濃度に基づいて所定の濃度調整を行い、前記原液供給部から供給される原液の濃度を制御するデータ処理部とを有することを特徴とする薬液濃度制御装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 648 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/304 648 G ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/306 R

Fターム (20件)：

3B201AA03 ,  3B201AB02 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  5F043DD23 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE27 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F043EE31 ,  5F043EE40

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 浸漬式基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-061542   出願人：大日本スクリーン製造株式会社