特許

J-GLOBAL ID：200903015954998749

位置合わせ方法

発明者： 入江 信行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-094560
公開番号（公開出願番号）：特開平6-310403
出願日： 1993年04月21日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：

【要約】【目的】 計測再現性の悪いサンプルショットの計測結果に大きく影響されることなく、高精度に位置合わせを行う。【構成】 ウエハWの露光ショットES1〜ESNから選ばれたサンプルショットSA1〜SA9のステージ座標系(X,Y)での配列座標を計測する。中心部の露光ショットESINのウエハマークの座標位置を複数回計測して標準偏差σINを求め、周辺部の露光ショットESOUT のウエハマークの座標位置を複数回計測して標準偏差σOUT を求め、それらの標準偏差の逆数を補間して重み付け関数を決定する。サンプルショットSA1〜SA9の計測結果にその重み付け関数から定まる重みを付加し、ウエハW上の座標系(x,y)からステージ座標系(X,Y)への変換パラメータを求める。

請求項（抜粋）：

基板上に設定された試料座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせするに際して、前記複数の被加工領域の内、少なくとも3つの予め選択されたサンプル領域の前記静止座標系における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計計算することによって、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出し、該算出された複数の被加工領域の各々の配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を対応する前記加工位置に対して位置合わせする方法において、前記サンプル領域の前記静止座標系において計測された座標位置の計測再現性を測定する第1工程と、該第1工程で測定された計測再現性に応じて前記サンプル領域にそれぞれ重みを割り当てる第2工程と、該第2工程で割り当てられた重みでそれぞれ前記サンプル領域の計測された座標位置を重み付けして得られた残留誤差の和が最小になるように前記試料座標系から前記静止座標系への変換パラメータを求める第3工程とを有し、前記試料座標系上の配列座標及び前記第3工程で求められた変換パラメータより、前記被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出することを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00