特許
J-GLOBAL ID:200903015962889096

電子ビーム露光制御方法と電子ビーム露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大胡 典夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-360593
公開番号(公開出願番号):特開2003-163149
出願日: 2001年11月27日
公開日(公表日): 2003年06月06日
要約:
【要約】【課題】 偏向による光学収差ぼけや電子ビーム形状寸法誤差を補正した高精度の電子ビーム露光制御方法とその電子ビーム露光装置を提供すること。【解決手段】 電子ビーム2をXY任意の偏向位置に露光する際に、偏向XY座標位置に応じて極子レンズ18、19にレンズ補正制御電圧を加算して印加することによりビーム偏向制御をおこなう。
請求項(抜粋):
電子ビーム発生源から発生した電子ビームの縮小投影手段として、マルチポールが形成されている極子レンズを前記電子ビームの光軸に沿って多重に配置して制御する電子ビーム露光制御方法において前記電子ビームをXY任意の偏向位置に露光する際に、偏向XY座標位置に応じて前記極子レンズに補正制御電圧を加算して印加することによりビーム偏向制御をおこなうことを特徴とする電子ビーム露光制御方法。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  H01J 37/12 ,  H01J 37/153 ,  H01J 37/305
FI (5件):
H01J 37/12 ,  H01J 37/153 Z ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 D ,  H01L 21/30 541 E
Fターム (11件):
5C033CC02 ,  5C033JJ01 ,  5C033JJ05 ,  5C034BB02 ,  5C034BB04 ,  5C034BB08 ,  5F056AA22 ,  5F056CB16 ,  5F056CB29 ,  5F056CB32 ,  5F056CD03

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