特許

J-GLOBAL ID：200903015970472668

化学増幅型レジスト組成物

発明者： 新田 和行 ,  佐藤 和史 ,  山崎 晃義 ,  坂井 与日 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-198979
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090884
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 コントラストに優れ、かつ高解像性、高残膜率及び高感度を有する上、レジストパターン形状、引き置き経時安定性に優れる化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成成分、及び(B)一般式【化1】(R1及びR2は酸解離性基で核置換された炭素環又は複素環基)で表わされるジアゾメタン化合物から成る酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成成分、及び(B)一般式【化1】(式中のR1及びR2は、それぞれ酸解離性基で核置換された炭素環又は複素環基であり、それらはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい)で表わされるジアゾメタン化合物から成る酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  C07C381/14 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A ,  C07C381/14 ,  H01L 21/30 502 R