特許

J-GLOBAL ID：200903015979745373

赤外線吸収材料及びその製造方法

発明者： 田島 真治 ,  中曽根 聡
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-232129
公開番号（公開出願番号）：特開平8-209110
出願日： 1995年09月11日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【課題】 赤外領域にのみ吸収を持ち、可視光領域では吸収を行わないYbPO4 (リン酸イッテルビウム)であって、近赤外領域での吸収特性に優れ、かつインキへの馴染みが良好で、薄い印刷層にも対応できる微細粒子状赤外線吸収材料、その製造方法、インキ、および不可視パターンの提供。【解決手段】 結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であるYbPO4 粒子からなる赤外線吸収材料。イッテルビウムアルコキシドとリン酸アルコキシドとを加水分解してYbPO4 粒子を生成させる上記赤外線吸収材料の製造方法。結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であり、カップリング剤で表面処理したYbPO4 粒子からなる赤外線吸収材料。イッテルビウムアルコキシドとリン酸アルコキシドとを加水分解して生成したYbPO4 粒子とカップリング剤とを反応させる上記赤外線吸収材料の製造方法。前記赤外線吸収材料及びインキビヒクルを含有するインキ。前記赤外線吸収材料を含有する不可視パターン及び不可視情報パターン。

請求項（抜粋）：

結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であるYbPO4 粒子からなることを特徴とする赤外線吸収材料。

IPC (3件)：

C09K 3/00 105 ,  C01B 25/37 ,  C01G 17/00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 赤外線吸収材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-215067   出願人：大日本印刷株式会社