特許

J-GLOBAL ID：200903015987470600

露光方法および反射型マスク

発明者： 伊東 昌昭 ,  老泉 博昭 ,  山梨 弘将 ,  瀬谷 英一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-114617
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305417
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】極端紫外光リソグラフィ技術において、位相シフト法を可能とする。【解決手段】反射型マスクにおいて、第1の多層膜を有する第1の反射領域と、第1の多層膜と中間層および第2の多層膜を有する第2の反射領域とを形成し、2つの反射領域の段差をh、照射光の波長をλ、入射角をθ、nを正の整数とするとき、0.8<(4×cosθ×h)/((2n-1)×λ)<1.2を満たす。

請求項（抜粋）：

反射型マスクに極端紫外光または真空紫外光を照射する工程と、上記反射型マスクのパターンを結像光学系を介して試料に転写する工程とを含む露光方法において、上記反射型マスクに少なくとも、第1の多層膜を有する第1の反射領域と、上記第1の多層膜と中間層および第2の多層膜を有する第2の反射領域とが形成され、上記第1の反射領域と上記第2の反射領域との段差をh、上記照射光の波長をλ、入射角をθ、nを正の整数とするとき、数1を満たすことを特徴とする露光方法。【数1】 0.8<(4×cosθ×h)/((2n-1)×λ)<1.2 ...(1)

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 528 ,  H01L 21/30 531 M