特許

J-GLOBAL ID：200903016003544205

マスクブランクとマスクの製造方法

発明者： 稗田 克彦 ,  トーマス・フィッシャー ,  アンドリース・グラスマン
出願人/特許権者： シーメンス・アクチェンゲゼルシャフト ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-313406
公開番号（公開出願番号）：特開平11-212250
出願日： 1998年11月04日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【課題】レジストの膜厚のばらつきを防止することが難しく、パターン寸法の精度を向上することが困難であった。【解決手段】石英からなる円形の基板12の一方の表面全面には、クロムからなる遮光膜13が形成されている。基板12を回転して遮光膜13の上にレジストを塗布する。基板12が円形であるため、レジストは遠心力により遮光膜13の全面に均一な膜厚で広がる。このレジストをパターニングしてレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして遮光膜13をエッチングすることにより、寸法精度の良好なパターンを形成できる。

請求項（抜粋）：

円形の透光性基板と、前記基板の一方の表面全面に形成された遮光性を有する膜とを具備することを特徴とするマスクブランク。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/14 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 564 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭53-099772
  
• 特開昭58-143344
  
• 特開昭53-099772
  
• 特開昭58-143344