特許
J-GLOBAL ID：200903016009867758
有機薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-179143
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037782
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 有機薄膜の成膜時に、有機薄膜の周縁にできる隆起部分を除去して、多層にしても、上層の平滑性が失われない有機薄膜の製造方法を提供することにある。【構成】 平滑性のあるアルミナ基板1上に、感光性ポリイミド(ネガ型)を塗布する。フォトマスクを介して光照射し、感光しない部分を現像液で処理する。そのことにより、基板周縁の隆起した部分を除去したポリイミド膜2aが形成される。その上層に感光性ポリイミド(ネガ型)を再度塗布し、感光することを繰り返し4層のポリイミド膜2a、2b、2c、2dを形成する。1層目のポリイミド膜の隆起部分を除去することにより、同じ有機高分子材料で4層膜にしても、上層の膜の平滑性が失われずに成膜できる。
請求項（抜粋）：
平滑性のある基板の表面に、液状の有機高分子材料を滴下し、回転塗布法で有機薄膜を形成する方法において、前記有機薄膜の基板周縁部に形成された隆起部分を除去することを特徴とする有機薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B05D 1/40
, H05K 3/28
, H05K 3/46
