特許

J-GLOBAL ID：200903016018645792

ナノ細孔構造をもつNi多孔質体の製造方法

発明者： 服部 義之 ,  加納 博文 ,  金子 克美
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-037761
公開番号（公開出願番号）：特開2003-239028
出願日： 2002年02月15日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】【目的】 触媒,吸着剤,ガス吸蔵材,コンデンサ,選択透過膜等の機能材料として有用なナノ細孔構造をもつNi多孔質体を得る。【構成】 このNi多孔質体は、ポリビニルアルコールのフィルムにニッケル化合物を分散吸着させた後、還元性又は非酸化性雰囲気中で加熱することによりポリビニルアルコールフィルムを消失させると共にニッケル化合物を金属Niに還元することにより製造される。ポリビニルアルコールは鹸化度80%以上,数平均分子量500〜20000のものが好ましく、ニッケル化合物には、酢酸ニッケル,蓚酸ニッケル,酪酸ニッケル等の有機酸塩や硫酸ニッケル,硝酸ニッケル,塩化ニッケル,リン酸ニッケル等の無機酸塩が使用される。

請求項（抜粋）：

ポリビニルアルコールの乾燥フィルムにニッケル化合物を分散吸着させた後、還元性又は非酸化性雰囲気中で加熱することによりポリビニルアルコールフィルムを消失させると共にニッケル化合物を金属Niに還元することを特徴とするナノ細孔構造をもつNi多孔質体の製造方法。

IPC (5件)：

C22C 1/08 ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 20/02 ,  B01J 23/755 ,  H01M 8/04

FI (5件)：

C22C 1/08 D ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 20/02 A ,  H01M 8/04 J ,  B01J 23/74 321 M

Fターム (46件)：

4D006GA41 ,  4D006MA26 ,  4D006MA27 ,  4D006MB03 ,  4D006MC02X ,  4D006NA51 ,  4D006NA63 ,  4D006PB18 ,  4G066AA02B ,  4G066AA10D ,  4G066AA53A ,  4G066AC02D ,  4G066BA23 ,  4G066BA24 ,  4G066BA31 ,  4G066CA38 ,  4G066FA12 ,  4G066FA17 ,  4G066FA34 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA21C ,  4G069BA22C ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB08C ,  4G069BB10C ,  4G069BB12C ,  4G069BB14C ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069BC68C ,  4G069BD12C ,  4G069BE06C ,  4G069BE08C ,  4G069EC03Y ,  4G069EC06Y ,  4G069EC18Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB36 ,  4G069FB44 ,  4G069FC02 ,  4G069FC03 ,  4G069FC07 ,  5H027AA02 ,  5H027BA14