特許
J-GLOBAL ID:200903016020189176
高熱伝導性窒化ケイ素焼結体及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 正緒
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-341193
公開番号(公開出願番号):特開2000-169239
出願日: 1998年12月01日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】【課題】 生産性の優れた方法で製造でき、機械的強度に優れ、且つ100W/mKを越える高い熱伝導率を有する窒化ケイ素焼結体を提供する。【解決手段】 窒化ケイ素焼結体の単一粒子内の転位密度が10μm/μm3以下に制御する。転位密度の制御は、原料粉末のX線回折における半価幅を低く抑えるか、焼結体を得るまでの工程で100kgf/cm2を越える圧力を加えない方法、又はSi粉末の窒化反応焼結による。転位密度を5μm/μm3以下に制御した窒化ケイ素焼結体は、140W/mK以上の高熱伝導率と、100kgf/mm2以上の曲げ強度を有している。
請求項(抜粋):
窒化ケイ素単一粒子内の転位密度が10μm/μm3以下であることを特徴とする高熱伝導性窒化ケイ素焼結体。
IPC (3件):
C04B 35/626
, C04B 35/591
, C04B 35/584
FI (3件):
C04B 35/58 102 Q
, C04B 35/58 102 V
, C04B 35/58 102 P
Fターム (14件):
4G001BA08
, 4G001BA32
, 4G001BA62
, 4G001BB08
, 4G001BB32
, 4G001BC12
, 4G001BC42
, 4G001BC45
, 4G001BC48
, 4G001BC55
, 4G001BC57
, 4G001BD03
, 4G001BD14
, 4G001BE39
引用特許:
引用文献:
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