特許
J-GLOBAL ID：200903016027807533
放射線不融化によるセラミック複合材料の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294316
公開番号（公開出願番号）：特開平11-130552
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：
【要約】【課題】 低放射化材料として核融合炉内壁などへの応用が期待されている高純度、高強度、高耐熱性のセラミック複合材料を作製する製造方法。【解決手段】 有機ケイ素系高分子であるポリカルボシラン、環状ポリシラザン及び/又はポリビニルシランを強化繊維である炭化ケイ素繊維織布または炭化ケイ素短繊維に含浸させた後に成形体とし、これに電離放射線を照射して不融化し、この放射線照射不融化成形体を不活性ガス中で焼成してセラミック化してセラミック強化繊維/セラミックマトリックス複合体を作製する。この有機ケイ素系高分子には、炭化ケイ素結晶粉末や窒化ケイ素結晶粉末、または、遷移金属と炭素、窒素、ほう素からなる高融点化合物の粉末を加えることができる。
請求項（抜粋）：
有機ケイ素高分子であるポリカルボシランを強化繊維である炭化ケイ素繊維織布または炭化ケイ素短繊維に含浸させた後、成形体とし、これに電離放射線を照射して不融化し、この放射線照射不融化成形体を不活性ガス中で焼成してセラミック化して、セラミック強化繊維/セラミックマトリックス複合体(以下セラミック複合材)を作製する方法。
FI (2件)：
C04B 35/80 C
, C04B 35/80 Z
