特許

J-GLOBAL ID：200903016045225274

リソグラフィ装置の構成要素表面の汚染を測定する方法および装置

発明者： ラルプ クルト ,  ミハエル コーネリス ファン ベーク ,  アントニー エレート ドイステルヴィンケル ,  エリク レネ キーフト ,  ハンス マイリンク ,  バスティアーン マティアス メルテンス ,  ヨハネス フベルトゥス ジョセフィーナ モールス ,  ルーカス ヘンリクス ヨハネス ステファンス ,  バスティアーン テオドール ヴォルシュリユン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ ,  カール ツァイス エスエムテー アーゲー
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-045957
公開番号（公開出願番号）：特開2004-282046
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】リソグラフィ投影装置の構成要素の表面における汚染を測定する方法および装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ投影装置の構成要素表面の汚染を特定する測定装置を提供する。該測定装置は、前記表面の少なくとも一部に放射線を投影する放射線トランスミッタと、構成要素からの放射線を受光する放射線レシーバとを有する。そしてプロセッサが放射線レシーバに通信接続され、受光放射線の特性を得て、この放射線特性から汚染の特性を得る。また、リソグラフィ投影装置の構成要素表面の汚染の特性を測定する方法も提供する。該方法は、表面に放射線を投影するステップと、構成要素からの放射線を受光するステップと、受光放射線から汚染の特性を得るステップとを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置の構成要素の表面における汚染の特性の少なくとも1つを測定するための測定装置であって、 -前記表面の少なくとも一部に投影放射線を投影する放射線トランスミッタと、 -投影放射線に応答して構成要素からの放射線を受光する放射線レシーバと、 -放射線レシーバに通信接続され、受光放射線の少なくとも1つの特性を導出し、受光放射線の前記少なくとも1つの特性から前記汚染の少なくとも1つの特性を特定するプロセッサとを備える測定装置。

IPC (8件)：

H01L21/027 ,  G01N21/27 ,  G01N21/33 ,  G01N21/35 ,  G01N21/94 ,  G03F7/20 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02

FI (10件)：

H01L21/30 503G ,  G01N21/27 B ,  G01N21/33 ,  G01N21/35 Z ,  G01N21/94 ,  G03F7/20 521 ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  H01L21/30 517 ,  H01L21/30 531A

Fターム (47件)：

2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB20 ,  2G051BA05 ,  2G051BA06 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051BB07 ,  2G051BC01 ,  2G051BC09 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CC07 ,  2G051CD09 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G059AA01 ,  2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059EE02 ,  2G059EE11 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059GG06 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ24 ,  2G059KK01 ,  2G059MM05 ,  5F046AA17 ,  5F046BA03 ,  5F046CB02 ,  5F046CB17 ,  5F046DA12 ,  5F046DB01 ,  5F046DC07 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01