特許
J-GLOBAL ID:200903016047563312

純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加茂 裕邦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-321412
公開番号(公開出願番号):特開平8-155272
出願日: 1994年11月30日
公開日(公表日): 1996年06月18日
要約:
【要約】【構成】陰陽の両イオン交換樹脂膜を交互に積層して希釈室と濃縮室を形成し、希釈室にシ-ト状の陰陽両イオン交換体を混合、収容し且つ希釈室と濃縮室の厚さを0.1mm〜1.1mmとした純水製造装置。【効果】処理水の流れが安定し、イオン交換樹脂膜及びイオン交換体を傷つけることなく、長時間にわたり安定した純水が得られる。特に希釈室を構成するガスケットの形状が簡易であり、大型化が可能である等優れた効果が得られる。
請求項(抜粋):
陽極を備える陽極室と陰極を備える陰極室との間に、複数枚の陽イオン交換膜と陰イオン交換膜とを交互に配列して構成した電気透析槽内に、陽極側が陰イオン交換膜で区画され、陰極側が陽イオン交換膜で区画された希釈室と陰極側が陽イオン交換膜で区画され、陽極側が陰イオン交換膜で区画された濃縮室とを交互に形成し、該希釈室内に陽イオン交換体と陰イオン交換体とを収容してなる純水製造装置において、該希釈室における陽イオン交換体と陰イオン交換体をシ-ト状とするとともに、該希釈室の厚さを0.1mm〜1.1mmの範囲としてなることを特徴とする純水製造装置。
IPC (2件):
B01D 61/46 ,  C02F 1/469

前のページに戻る