特許
J-GLOBAL ID:200903016049072197
X線管及びX線発生装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西岡 義明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-139878
公開番号(公開出願番号):特開2001-319605
出願日: 2000年05月12日
公開日(公表日): 2001年11月16日
要約:
【要約】【課題】検査対象に応じて、X線の線質を変更することにより、検査対象に適したX線を発生することが出来るX線管及びX線発生装置を提供する。【解決手段】多層膜金属ターゲット5は、異なる金属からなる第1金属層5a,第2金属層5b,及び第3金属層5cの薄膜からなり、電子ビーム13が多層膜金属ターゲット5に入射すると、電子ビーム13は、第3金属層5cまで到達し、それぞれ第1金属層5a,第2金属層5b,第3金属層5cの金属特性に応じた線質のX線Xa,Xb,及びXcが発生する。
請求項(抜粋):
電子源から電子をターゲットに照射し、X線を発生させるX線管において、前記ターゲットを異なる金属よりなる多層膜として形成したことを特徴とするX線管。
IPC (5件):
H01J 35/08
, G21K 5/02
, G21K 5/08
, H05G 1/00
, H05G 1/10
FI (7件):
H01J 35/08 B
, H01J 35/08 F
, G21K 5/02 X
, G21K 5/08 X
, H05G 1/10
, H05G 1/00 C
, H05G 1/00 R
Fターム (6件):
4C092AA01
, 4C092AB23
, 4C092AC08
, 4C092BD19
, 4C092CD02
, 4C092CE11
引用特許:
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