特許
J-GLOBAL ID：200903016050961795
薄膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-077726
公開番号（公開出願番号）：特開平5-039568
出願日： 1991年04月10日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：
【要約】プラズマ生成室壁21を構成する外筒21aの内周に形成しようとする薄膜の成分元素と同じ元素で形成されたインナーベルジャ21bを配設し、このインナーベルジャ21b内でECRをプラズマを生成させる。これによってプラズマ生成室20の内周壁がスパッタされてプラズマ内へ不純物が混入するのを防止することができ、結晶性の良好な薄膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
プラズマ生成域で生成されたプラズマ中のイオンが試料基板表面に導かれて薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記プラズマ生成域の外周部に形成しようとする薄膜の成分元素と略同じ元素で形成されたインナーベルジャが配設されていることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (4件)：
C23C 14/34
, C30B 23/08
, C30B 25/02
, H01L 21/205
