特許
J-GLOBAL ID：200903016067013882
微細構造体の製造方法、露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 田中 克郎
, 大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-314812
公開番号（公開出願番号）：特開2008-126283
出願日： 2006年11月21日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：
【課題】高いスループットを確保しながら微細パターンを形成することを可能とする技術を提供すること。【解決手段】被加工物(2)にレーザービーム(LB)を照射することにより微細な周期構造を有する微細構造体を製造する方法であって、(a)第1の方向に長いビーム断面形状を有するパルス状のレーザービームを生成すること、(b)第1の方向と平行方向にレーザービーム又は被加工物を速度Vで移動させること、(c)レーザービームを、第1の照射機会における照射範囲(101)と第1の照射機会より後の第2の照射機会における照射範囲(102)とが部分的に重畳するようにレーザービームのパルスの繰り返し周波数と速度Vとを相対的に設定して、被加工物に対して照射すること、を含む微細構造体の製造方法である。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
被加工物にレーザービームを照射することにより微細な周期構造を有する微細構造体を製造する方法であって、
(a)第1の方向に長いビーム断面形状を有するパルス状のレーザービームを生成すること、
(b)前記第1の方向と平行方向に前記レーザービーム又は被加工物を速度Vで移動させること、
(c)前記レーザービームを、第1の照射機会における照射範囲と前記第1の照射機会より後の第2の照射機会における照射範囲とが部分的に重畳するように前記レーザービームのパルスの繰り返し周波数と前記速度Vとを相対的に設定して、前記被加工物に対して照射すること、
を含む、微細構造体の製造方法。
IPC (6件)：
B23K 26/36
, B81C 5/00
, B23K 26/073
, B23K 26/06
, B23K 26/08
, G02B 5/30
B23K26/36
, B81C5/00
, B23K26/073
, B23K26/06 J
, B23K26/06 Z
, B23K26/08 A
, G02B5/30
2H049BA05
, 2H049BA06
, 2H049BA45
, 2H049BC01
, 2H049BC05
, 4E068AD00
, 4E068AH00
, 4E068CA03
, 4E068CD05
, 4E068CD08
, 4E068CD10
, 4E068CE02
, 4E068CE04
