特許

J-GLOBAL ID：200903016067514059

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  富岡 淳 ,  桑名 耕治 ,  中西 弘俊 ,  井田 綾子
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-217188
公開番号（公開出願番号）：特開平5-053316
出願日： 1991年08月28日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像及びγ値に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び、例えば下式で表されるフェノール化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表されるフェノール化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のアルケニル基または-OCOR3 を表し、R1 及びR2 の少なくとも一方は水素原子以外の基である。ここで、R3 は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のフェニル基を表す。Xは-CO-、-CR’R”-、-SO2 -または【化2】を表す。R’及びR”はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基またはα-ナフチル基を表す。)

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭60-150047
  
• 特開平3-296757
  
• 特開平4-274242
  
• 特開平4-122938
  
• 特開平4-299348