特許
J-GLOBAL ID：200903016073378736
ポリ-1,4-フェニレンエーテルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-144454
公開番号（公開出願番号）：特開平9-324044
出願日： 1996年06月06日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】C-C結合構造が生成せず、かつオルト位の分岐も少ないという構造の制御された、融点を示す、ポリ-1,4-フェニレンエーテルを製造する方法を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表される遷移金属錯体触媒を用いて、下記一般式(II)で表される原料を酸化剤存在下で重合するポリ-1,4-フェニレンエーテルの製造方法。(式中、Mは第4〜11族遷移金属原子を表し、R<SP>1 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する有機基であり、すべてのR<SP>1 </SP>は同一でも異なっていてもよい。R<SP>1 </SP>は任意の組合わせで環を形成していてもよい。R<SP></SP><SP>2 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する三官能性の有機基であり、すべてのR<SP>2 </SP>は同一でも異なっていてもよい。Yはカウンターアニオンであり、yはYの個数であって、Mの価数により決定される。)(式中、mは数平均ユニット数を表し、1<mである。)
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される遷移金属錯体触媒を用いて、下記構造式(II)で表される原料を酸化剤存在下で重合することを特徴とするポリ-1,4-フェニレンエーテルの製造方法。(式中、Mは第4〜11族遷移金属原子を表し、R<SP>1 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する有機基であり、すべてのR<SP>1 </SP>は同一でも異なっていてもよい。R<SP>1 </SP>は任意の組合わせで環を形成していてもよい。R<SP></SP><SP>2 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する三官能性の有機基であり、すべてのR<SP>2 </SP>は同一でも異なっていてもよい。Yはカウンターアニオンであり、yはYの個数であって、Mの価数により決定される。)(式中、mは数平均ユニット数を表し、1<mである。)
引用特許：
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