特許

J-GLOBAL ID：200903016075155467

有害物質処理工法

発明者： 吉 田 宏 ,  羽 田 中 ,  田 中 喜 樹
出願人/特許権者： ケミカルグラウト株式会社 ,  大翔化学株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敏忠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-132095
公開番号（公開出願番号）：特開2001-311140
出願日： 2000年05月01日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【目的】 地盤改良作業やはつり作業における有害物質の発生防止。【解決手段】 改良するべき地盤(G)にボーリング孔(50)を穿孔し、穿孔されたボーリング孔(50)内に挿入された噴射モニタ(42)から地盤改良材及び水を地盤中に噴射(J-2)して地盤(G)の掘削及び地盤改良材との混合を行いつつ前記噴射モニタ(42)を引き上げ以って地中固結体(JG)を造成し、地盤改良材及び水を地盤中に噴射(J-2)するのに先立って前記水に還元剤を混合する。

請求項（抜粋）：

改良するべき地盤にボーリング孔を穿孔する穿孔工程と、穿孔されたボーリング孔内に挿入された噴射モニタから地盤改良材及び水を地盤中に噴射して地盤の掘削及び地盤改良材との混合を行いつつ前記噴射モニタを引き上げ以って地中固結体を造成する噴射工程とを含み、該噴射工程に先立って前記水に還元剤を混合する工程を含むことを特徴とする有害物質処理工法。

IPC (6件)：

E02D 3/12 102 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  C02F 1/70 ,  E02D 5/18 101

FI (5件)：

E02D 3/12 102 ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/70 B ,  E02D 5/18 101 ,  B09B 3/00 304 K

Fターム (28件)：

2D040AA00 ,  2D040AB03 ,  2D040BA01 ,  2D040BC01 ,  2D040BD03 ,  2D040BD05 ,  2D040CA10 ,  2D040CB03 ,  2D040CD02 ,  2D049EA14 ,  2D049EA15 ,  2D049GA12 ,  2D049GA17 ,  2D049GB01 ,  2D049GC11 ,  2E191BA12 ,  2E191BB01 ,  2E191BC05 ,  2E191BD11 ,  4D004AA41 ,  4D004AB03 ,  4D004AB06 ,  4D004CA37 ,  4D004CC03 ,  4D004CC15 ,  4D050AA12 ,  4D050AB54 ,  4D050BA12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭52-049977
  
• 特開昭58-007021
  
• 特開平4-161533
  
• セメント系土質固化材用添加剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-122749   出願人：太平洋セメント株式会社