特許

J-GLOBAL ID：200903016119420767

大比表面積シリケート及びその合成方法

発明者： 野島 繁 ,  佃 岩夫
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 内田 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-289773
公開番号（公開出願番号）：特開平10-139417
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：

【要約】【課題】 大きな比表面積とメソポアを有し、かつ非晶質形態を示す大比表面積多孔質シリケート及びその合成方法を提供すること。【解決手段】 シリカ化合物、有機テンプレート及び特定の金属化合物から水熱合成によって合成される複合体を焼成して得られる大比表面積多孔質シリケートであって、粉末X線回折パターンで非晶質形態を示すことを特徴とする大比表面積多孔質シリケート並びにシリカ化合物、特定の有機テンプレート及び特定の金属化合物を特定割合で混合し、pH10〜1の条件で水熱合成を行わせ、得られる複合体を焼成することを特徴とする非晶質の大比表面積多孔質シリケートの合成方法。

請求項（抜粋）：

シリカ化合物、カチオン系界面活性剤からなる有機テンプレート並びにアルミニウム、鉄、バナジウム、マンガン、ガリウム、クロム、チタン、ホウ素、白金、パラジウム、銅、亜鉛及びジルコニウムからなる群から選ばれる1種以上の金属化合物から水熱合成によって合成される複合体を焼成して得られる多孔質シリケートであって、平均細孔径が10〜100オングストロームのメソポアを有し、BET法による窒素吸着により測定した比表面積が600m2 /g以上であり、粉末X線回折パターンで非晶質形態を示すことを特徴とする大比表面積多孔質シリケート。

IPC (10件)：

C01B 33/20 ,  B01J 20/10 ,  B01J 21/12 ,  B01J 23/06 ,  B01J 23/08 ,  B01J 23/16 ,  B01J 23/40 ,  B01J 23/72 ,  B01J 32/00 ,  B01J 35/10 301

FI (10件)：

C01B 33/20 ,  B01J 20/10 B ,  B01J 21/12 Z ,  B01J 23/06 Z ,  B01J 23/08 Z ,  B01J 23/16 Z ,  B01J 23/40 Z ,  B01J 23/72 Z ,  B01J 32/00 ,  B01J 35/10 301 H