特許
J-GLOBAL ID：200903016119435470
光導波路及びその製造方法並びに光伝送モジュール
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-245439
公開番号（公開出願番号）：特開平8-110425
出願日： 1994年10月11日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：
【要約】【目的】バッファ層及びコアガラス膜形成後のSi基板の反りを極めて小さくし、さらに、クラッド層形成後のSi基板の反りも極めて小さくする。【構成】Si基板20の表面にバッファ層21を形成し、その上にコアガラス膜22を形成する。バッファ層21及びコアガラス膜22を形成することによって生じたSi基板20の反りを矯正するために、バッファ層21と同一組成で構成される石英系ガラス膜23をSi基板20の裏面に形成する。次いで、コアガラス膜22を加工してコア24を形成し、コア上に多孔質ガラス層25を形成した後、多孔質ガラス層を透明ガラス化してクラッド層26を形成する。クラッド層26を形成することにより生じたSi基板20の反りを矯正するために、Si基板20の裏面に形成した石英系ガラス膜23上に、さらにバッファ層21またはクラッド層26と同一組成で構成される石英系ガラス膜27を形成する。
請求項（抜粋）：
Si基板と、該Si基板の表面に設けられたバッファ層と、該バッファ層上に設けられたコアと、該コアを含むバッファ層上に設けられたクラッド層と、前記Si基板の表面の一部を露出させることにより形成され、光素子が搭載されるSiベンチと、前記Si基板の裏面に設けられ、前記バッファ層とコアとを設ける過程で生じるSi基板の反りを矯正する第1の石英系ガラス膜と、該第1の反り矯正層上に設けられ、前記クラッド層を設ける過程で生じるSi基板の反りを矯正する第2の石英系ガラス膜とを備えた光導波路。
IPC (3件)：
G02B 6/122
, G02B 6/13
, G02B 6/42
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
