特許
J-GLOBAL ID：200903016123264605
測光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-295095
公開番号（公開出願番号）：特開2005-062085
出願日： 2003年08月19日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 斜め方向からの照射ビームの照射を行う照射光学系でも測光面での光強度分布の一定化を図り、測光面の位置変動に対する受光量変動を抑制して測光精度を確保する。【解決手段】 測光面5に照射ビームを照射する照射光学系2と、測光面5から反射された反射光を測光する受光光学系3とを備えた斜め照射であり、照射光学系2による照射ビームの光強度分布が、光軸20から離れるに従って光強度が漸減または漸増する分布特性を有し、この照射ビームを測光面5に照射した際に、測光面5での光強度分布が一定となる領域を有し、この領域内に受光光学系3の測光領域bを設定する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
測光面に測定光となる照射ビームを照射する照射光学系と、該測光面から反射された反射光を測光する受光光学系とを備えた測光装置において、
前記照射ビームの光軸と前記測光面との角度が90度から傾いた斜め照射であり、前記照射光学系による照射ビームの光強度分布が、光軸から離れるに従って光強度が漸減または漸増する分布特性を有し、前記照射ビームを前記測光面に照射した際に、該測光面での光強度分布が一定となる領域を有し、該領域内に前記受光光学系の測光領域を設定したことを特徴とする測光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/01 D
, G01N21/47 Z
2G059AA01
, 2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE02
, 2G059GG10
, 2G059JJ11
, 2G059JJ25
, 2G059KK01
