特許

J-GLOBAL ID：200903016134612494

成膜装置

発明者： 八島 司
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 宮本 治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-296360
公開番号（公開出願番号）：特開2003-105544
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】異物による不良を抑制または防止できる成膜装置を提供する。【解決手段】カセット105を大気搬送システム104に投入し、カセット105の最後の被成膜基板が成膜後成膜室101から搬出されると、成膜室101にてガスクリーニングレシピを実施する。ガスクリーニングが終了すると、シーズニング(成膜時と同じガスを使用した堆積物の形成)レシピ確定待ち状態にする。次のカセット106を大気搬送システム104に投入することによって、シーズニングレシピ125を確定状態に移行させ、成膜室101にてシーズニングを実施する。その後カセット106の被成膜基板に成膜を行う。このように、次のカセット106の投入と連動してシーズニングを行うので、ガスクリーニング後に次のカセットが投入されるまでの間に間隔があいても、異物が発生するのを抑制または防止できる。

請求項（抜粋）：

被成膜物に成膜用ガスを用いて成膜を行う成膜室と、前記被成膜物が投入される投入部と、前記成膜室と前記投入部との間で前記被成膜物を搬送する搬送部とを備え、第1の複数の前記被成膜物に前記成膜室内で成膜を行い、その後自動的に前記成膜室のガスクリーニングを行い、その後自動的に前記成膜用ガスの一部、前記成膜用ガスと同じガスまたは前記成膜用ガスを含むガスを用いて前記成膜室に堆積物を形成し、その後、前記第1の複数の被成膜物とは異なる第2の複数の前記被成膜物に前記成膜室内で成膜を行う成膜装置であって、前記第2の複数の被成膜物を前記投入部に投入するタイミングと連動して自動的に、前記成膜用ガスの一部、前記成膜用ガスと同じガスまたは前記成膜用ガスを含むガスを用いて前記成膜室に堆積物を形成することを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 16/44 J ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/31 C

Fターム (20件)：

4K030DA06 ,  4K030GA12 ,  4K030KA28 ,  4K030LA18 ,  4M104DD43 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45 ,  4M104EE17 ,  4M104HH20 ,  5F045AA08 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AE19 ,  5F045BB08 ,  5F045BB15 ,  5F045EB06 ,  5F045EB08