特許
J-GLOBAL ID：200903016151816869
ダイヤモンド薄膜の合成法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
岡田 英彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-090799
公開番号（公開出願番号）：特開平6-279186
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：
【要約】【目的】物理的損傷のない清浄な基板表面にダイヤモンド薄膜を成長させることができるダイヤモンド薄膜の合成法を提供すること。【構成】基板1上に鉄族元素を含む金属薄膜4を形成する工程と、前記工程で形成した基板1の金属薄膜4上に化学蒸着法によりダイヤモンド薄膜を形成する工程、とからなること。
請求項（抜粋）：
基板上に鉄族元素を含む金属薄膜を形成する工程と、前記工程で形成した基板の金属薄膜上に化学蒸着法によりダイヤモンド薄膜を形成する工程、とからなることを特徴とするダイヤモンド薄膜の合成法。
IPC (4件)：
C30B 29/04
, C23C 16/26
, C30B 25/00
, H01L 21/205
