特許
J-GLOBAL ID：200903016157472738
マルチビーム走査装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-315867
公開番号（公開出願番号）：特開平9-138363
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：
【要約】【課題】 デフォーカスによる副走査方向のスポット間隔の発生を抑制し,高品位で,かつ,簡単な構成のマルチビーム走査を実現すること。【解決手段】 複数の光ビームを出射する光源部101と,出射された複数の光ビームを偏向し,被走査面107に露光走査する偏向器104と,光源部101と偏向器104間にあり,ビーム整形を行うアパーチャ102と,アパーチャ102と偏向器104間にあり,入射した各光ビームを偏向器104近傍に線状結像させる第1結像光学系103と,偏向器104と被走査面107間にあり,各光ビームを被走査面107に微小スポットで結像させる第2結像光学系105とを備え,第1結像光学系103の副走査断面における物体側焦点に対して光源側101にアパーチャ102を配置する。
請求項（抜粋）：
複数の光ビームを出射する光源部と,前記光源部から出射された複数の光ビームを偏向し,被走査面に露光走査する偏向器と,前記光源部と前記偏向器との間に配置されてビーム整形を行うアパーチャと,前記アパーチャと前記偏向器との間に配置されて入射した各光ビームをそれぞれ前記偏向器近傍に線状に結像させる第1の結像光学系と,前記偏向器と前記被走査面との間に配置されて各光ビームを前記被走査面に微小スポットとして結像させる第2の結像光学系とを備えたマルチビーム走査装置において,前記第1の結像光学系における光学系の光軸を含み前記偏向器によって前記被走査面上を光ビームが走査される方向と垂直な副走査方向に平行な断面における物体側焦点に対して前記光源側に前記アパーチャを配置したことを特徴とするマルチビーム走査装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B 26/10 B
, G02B 26/10 D
, G02B 13/00
