特許

J-GLOBAL ID：200903016160186983

高純度アルミナセラミックス及びその製造方法

発明者： 島井 駿蔵 ,  五十嵐 昇 ,  森田 敬司 ,  永坂 幸行 ,  原田 晴司 ,  安藤 和
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 赤野 牧子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-327529
公開番号（公開出願番号）：特開平6-157132
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年06月03日
要約：

【要約】【目的】 不純物含有量が極めて低減され、半導体製造装置用部材に好適に用いることが可能な高純度アルミナセラミックス及びその製造方法の提供。【構成】 マグネシア含有量が100ppm以下で、且つ、アルカリ金属酸化物含有量が50ppm以下であることを特徴とする高純度アルミナセラミックス。

請求項（抜粋）：

マグネシア含有量が100ppm以下で、且つ、アルカリ金属酸化物含有量が50ppm以下であることを特徴とする高純度アルミナセラミックス。