特許
J-GLOBAL ID：200903016164152374
気相成長装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-326855
公開番号（公開出願番号）：特開平10-158843
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：
【要約】【課題】 品質の均一性が向上し、また、生産性も向上する気相成長装置を提供する。【解決手段】 1台のガス供給装置1、ガス分配手段3および複数の反応炉2a、2b、2cを有し、ガス分配手段3は均圧室30と、前記均圧室30のガス流出側に設けたニードルバルブ31a〜31cとマスフローメータ32a〜32cとからなる流量調整手段とを有し、ガス供給装置1から供給される原料ガスはガス分配手段3で所定の割合に分配されて各反応炉2a、2b、2cに供給される。
請求項（抜粋）：
ガス供給装置と、前記ガス供給装置から供給されるガスを所定の割合に分配するガス分配手段と、前記ガス分配手段から供給されるガスが反応して気相成長する基板を収納する複数の反応炉を有することを特徴とする気相成長装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 D
, H01L 21/205
