特許

J-GLOBAL ID：200903016170516000

放射線照射機器の制御装置および方法

発明者： オイゲン バドゥーラ ,  ホルゲル ブランド ,  ハンス ゲオルグ エッセル ,  トーマス ハベラー ,  ヤン ホッフマン ,  ウォルフガング オット ,  クラウス ポッペンシ-ケル
出願人/特許権者： ゲゼルシャフト フュア シュベールイオーネンフォルシュンク エム ベー ハー
代理人 (1件)： 庄司 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-280372
公開番号（公開出願番号）：特開2001-104498
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：

【要約】【課題】 特に、重イオン治療において、放射線照射機器を制御する装置および方法を提供する。【解決手段】 本装置は、一連の回路モジュール(11〜17)を備え、各回路モジュール(11〜17)が、先行の回路モジュールとの個々の通信用接続を有し、かつ後続の回路モジュールとの個々の通信用接続をそれぞれ有する。一つの連鎖中に配置される制御モジュール(11〜17)により放射線照射機器を制御する方法において、各制御モジュール(11〜17)は、先行の制御モジュールと個々に通信し、かつ後続の制御モジュールと個々に通信する。

請求項（抜粋）：

放射線照射機器を制御する装置であって、一連の回路モジュール(11〜17)を備え、各回路モジュール(11〜17)が、先行の回路モジュールとの個々の通信用接続を有し、かつ後続の回路モジュールとの個々の通信用接続をそれぞれ有する装置。

IPC (2件)：

A61N 5/10 ,  G21K 5/00

FI (2件)：

A61N 5/10 D ,  G21K 5/00

Fターム (9件)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AG02 ,  4C082AG11 ,  4C082AN01 ,  4C082AN10 ,  4C082AR20 ,  4C082AT03 ,  4C082AT06