特許
J-GLOBAL ID：200903016182779244
検査装置および異物検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 守弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-232998
公開番号（公開出願番号）：特開2007-049002
出願日： 2005年08月11日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：
【目的】本発明は、電子線ビームをマスクあるいは薄膜上に照射して走査し、反射された反射電子を検出・増幅して当該マスクあるいは薄膜の反射電子像を生成する検査装置および異物検査方法に関し、光検査やパターンの端面強調型の2次電子検出では検出困難な位相シフト膜などのマスク上あるいは特定薄膜上の成長性異物などの異物を、質量強調型の特性を活かして簡易かつ高精度に検出することを目的とする。【構成】 電子線ビームをマスクあるいは薄膜に照射して走査し、反射電子像を取得してその最大値および最小値を取得する手段と、マスクあるいは薄膜上の検査対象領域から取得した反射電子像について、取得した最大値以上(あるいは最大値に所定許容値を加算した値以上)あるいは最小値以下(あるいは最小値に所定許容値を減算した値以下)の強度を持つ画像を検出する手段とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電子線ビームをマスクあるいは薄膜上に照射して走査し、反射された反射電子を検出・増幅して当該マスクあるいは薄膜の反射電子像を生成する装置において、
電子線ビームをマスクあるいは薄膜に照射して走査し、反射電子像を取得してその最大値および最小値を取得する手段と、
マスクあるいは薄膜上の検査対象領域から取得した反射電子像について、前記取得した最大値以上(あるいは最大値に所定許容値を加算した値以上)あるいは最小値以下(あるいは最小値に所定許容値を減算した値以下)の強度を持つ画像を検出する手段と
を備えたことを特徴とする検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (16件)：
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001GA06
, 2G001HA07
, 2G001HA13
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA41
, 4M106DB02
, 4M106DJ14
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ27
