特許
J-GLOBAL ID:200903016186764276
投影露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-369954
公開番号(公開出願番号):特開2001-185476
出願日: 1999年12月27日
公開日(公表日): 2001年07月06日
要約:
【要約】【課題】 空間周波数フィルタを投影レンズ系から取り出すことなく、そのパターンを制御する。【解決手段】 投影レンズ系10において空間周波数フィルタ103は、瞳面に配置されている。空間周波数フィルタ103を制御する手段には液晶素子コントローラ15b及びフィルタ情報記憶部16bが含まれる。空間周波数フィルタ103に要求されるパターンは、フィルタ情報記憶部16bから液晶素子コントローラ15bへと伝達される。空間周波数フィルタ103の透過率や位相差は予めシミュレーション等で設計されており、これらのデータに基づいて液晶素子に電圧を印加する態様がフィルタ情報記憶部16bに記憶されている。
請求項(抜粋):
フォトマスクを透過した光を被処理物へと投射する投影レンズ系において設けられる、少なくとも一つの液晶素子を有する空間周波数フィルタと、前記液晶素子の透過率及び屈折率を制御する液晶素子コントローラとを備える投影露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G02F 1/13 505
, G03F 7/20 521
FI (4件):
G02F 1/13 505
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 Z
Fターム (12件):
2H088EA39
, 2H088EA47
, 2H088EA49
, 2H088HA06
, 2H088HA24
, 2H088HA28
, 2H088MA20
, 5F046BA04
, 5F046CB09
, 5F046CB18
, 5F046CB25
, 5F046DA12
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