堆積膜の連続形成方法及び連続形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-311333
公開番号（公開出願番号）：特開平11-131243
出願日： 1997年10月28日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】本発明は、簡便な手段によって、帯状基板に付着した有機系の汚染物をムラ無く除去することができ、特性の向上した堆積膜を形成することのできる堆積膜の連続形成方法及び連続形成装置を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、帯状基板をその長手方向に連続的に搬送させながら複数のガスゲートを介して連結された成膜室を通過させ、前記帯状基板に堆積膜を連続的に積層させる堆積膜の連続形成方法または装置において、前記成膜室で帯状基板上に堆積膜を積層させる以前に、前記帯状基板表面に酸素を含む雰囲気の中で紫外線を照射することを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

帯状基板をその長手方向に連続的に搬送させながら複数のガスゲートを介して連結された成膜室を通過させ、前記帯状基板に堆積膜を連続的に積層させる堆積膜の連続形成方法において、前記成膜室で帯状基板上に堆積膜を積層させる以前に、前記帯状基板表面に酸素を含む雰囲気の中で紫外線を照射することを特徴とする堆積膜の連続形成方法。

IPC (4件)：

C23C 16/50 , C23C 16/54 , G03G 5/08 105 , H01L 21/205

FI (4件)：

C23C 16/50 , C23C 16/54 , G03G 5/08 105 , H01L 21/205

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