特許

J-GLOBAL ID：200903016213589163

保護膜の製造方法

発明者： 興津 洋正
出願人/特許権者： 旭テクノグラス株式会社
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-268164
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177203
出願日： 1997年10月31日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、耐熱・耐水性に優れかつ安価な保護膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 反射体に被着されている光学的多層膜上に被着される保護膜の製造方法であって、SiO2及びAl2O3を必須成分として含有し、その合量が95質量%以上含有している保護膜を、ムライトを蒸着源として被着する。

請求項（抜粋）：

基板に被着された光学的多層膜上に形成される保護膜の製造方法であって、前記光学的多層膜上にムライトを蒸着源として真空蒸着する工程と、その後、前記基板を350°C以上に加熱する工程とを備え、Al2O3及びSiO2の合量が95質量%以上となる保護膜を形成することを特徴とする保護膜の製造方法。

IPC (8件)：

G02B 1/10 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/58 ,  F21S 2/00 ,  F21V 7/00 ,  F21V 7/22 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/28

FI (7件)：

C23C 14/06 L ,  C23C 14/58 A ,  F21V 7/22 Z ,  G02B 5/08 A ,  G02B 5/28 ,  G02B 1/10 Z ,  F21M 1/00 K

Fターム (33件)：

2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DA18 ,  2H042DB03 ,  2H042DC02 ,  2H042DD06 ,  2H042DE04 ,  2H048GA07 ,  2H048GA09 ,  2H048GA18 ,  2H048GA24 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2K009BB02 ,  2K009CC02 ,  2K009CC06 ,  2K009DD03 ,  2K009EE04 ,  3K042AA01 ,  3K042AB01 ,  3K042AB03 ,  3K042AC07 ,  3K042BB01 ,  3K042CC03 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA64 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029DB05 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-088449
  
• 特開昭55-066802