特許
J-GLOBAL ID：200903016237915401
水素ガスの精製方法および精製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大石 征郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-370368
公開番号（公開出願番号）：特開2003-170018
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：
【要約】【課題】 特定の合金ゲッタ剤を2段に配置し、各段を異なる温度に設定して精製操作を行うことにより、不純物除去量が優れ、かつ経済的にも有利な水素ガスの精製方法およびそのための装置を提供することを目的とする。【解決手段】 不純物として、窒素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、水分を含む水素ガスを精製する方法およびそのための装置である。ジルコニウム(Zr)を主成分とする合金ゲッタ剤(11)に、上記不純物を含む水素ガスを300〜500°Cで接触させて、該不純物の中の窒素、酸素、水分を除去すると共に、一酸化炭素および二酸化炭素をメタンに転化して、実質的に不純物としてメタンだけを含む水素ガスとなす。ついで、この実質的に不純物としてメタンだけを含む水素ガスを、上記と同一組成または別組成のジルコニウム(Zr)を主成分とする合金ゲッタ剤(13)に550〜600°Cで接触させて、メタンを除去する。
請求項（抜粋）：
不純物として、窒素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、水分を含む水素ガスを、ジルコニウム(Zr)を主成分とする合金ゲッタ剤(11)に接触させ、ついで前記と同一組成または別組成のジルコニウム(Zr)を主成分とする合金ゲッタ剤(13)に接触させて、水素ガスを精製するにあたり、その水素ガスの精製操作に先立ち、前記合金ゲッタ剤(11), (13)に、前記の各不純物の濃度が1ppb 未満の超高純度水素ガスを、700〜800°Cでかつ空間速度SV100〜2000hr-1の条件で少なくとも48時間以上接触させて、該合金ゲッタ剤(11), (13)に含有する炭素と供給水素との反応により生成するメタンを1ppb 未満にまで低減させる前処理を行うことを特徴とする水素ガスの精製方法。
IPC (4件)：
B01D 53/14
, B01J 20/02
, C01B 3/56
, C22C 16/00
B01D 53/14 A
, B01J 20/02 B
, C01B 3/56 Z
, C22C 16/00
4D020AA02
, 4D020AA03
, 4D020AA07
, 4D020AA08
, 4D020AA10
, 4D020BA03
, 4D020BB01
, 4D020CA05
, 4D020DA03
, 4D020DB01
, 4D020DB02
, 4D020DB03
, 4G040FA04
, 4G040FB02
, 4G040FB03
, 4G040FB04
, 4G040FB05
, 4G040FB06
, 4G040FC02
, 4G040FC06
, 4G040FD07
, 4G040FE01
, 4G066AA02B
, 4G066BA09
, 4G066CA27
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066CA43
, 4G066DA04
