特許

J-GLOBAL ID：200903016242904825

紫外線レーザ用合成石英ガラス及びその製造方法

発明者： 河野 充 ,  鍬先 尚哉 ,  井上 初志 ,  竹内 哲彦
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  新日鐵化学株式会社 ,  セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-089106
公開番号（公開出願番号）：特開平7-277752
出願日： 1994年04月04日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 レンズ、プリズム、ビ-ムスプリッタ、分光器など紫外線用の光学部品、特にエキシマレーザー等紫外線レーザ装置の光学系に使用されるレンズ、プリズム等の光学部品に応用可能な光学特性に優れたゾル-ゲル法による合成石英ガラス及びその製造方法を提供する。【構成】 アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素及び遷移金属元素に属する各金属元素の濃度がいずれも50重量ppb以下で、且つGe、Sn及びPbの各金属元素の濃度がいずれも5重量ppb以下であるシリカ微粒子と、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素及び遷移金属元素に属する各金属元素の濃度がいずれも10重量ppb以下で、且つGe、Sn及びPbの各金属元素の濃度がいずれも5重量ppb以下であるシリコンアルコキシドとを混合してゲルを合成し、該ゲルを昇温しながら乾燥、焼結、ガラス化することを特徴とするゾル-ゲル法による合成石英ガラスの製造方法。

請求項（抜粋）：

シリカ微粒子と、シリコンアルコキシドとを混合してゲルを合成し、該ゲルを昇温しながら乾燥、焼結、ガラス化する工程より構成されるゾル-ゲル法による合成石英ガラスの製造方法において、以下に示すシリカ微粒子とシリコンアルコキシドを用いることを特徴とする、紫外線レーザ用合成石英ガラスの製造方法。a アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素及び遷移金属元素に属する各金属元素の濃度がいずれも50重量ppb以下で、且つGe、Sn及びPbの各金属元素の濃度がいずれも5重量ppb以下であるシリカ微粒子。b アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素及び遷移金属元素に属する各金属元素の濃度がいずれも10重量ppb以下で、且つGe、Sn及びPbの各金属元素の濃度がいずれも5重量ppb以下であるシリコンアルコキシド。

IPC (5件)：

C03B 20/00 ,  C01B 33/14 ,  C03B 8/02 ,  C03B 19/12 ,  H01S 3/17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-292627
  
• 特開平4-240124
  
• 特開平3-005329