特許

J-GLOBAL ID：200903016243055600

収差補正システム、収差補正方法、変形レチクルチャック及びEUV露光装置

発明者： マイケル ソガード
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-174518
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031954
出願日： 2003年06月19日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】EUVリソグラフィーにおいて、収差を補正するためのシステム、レチクルチャック等を提供することを目的とする。【解決手段】レチクルを載置する変形レチクルチャックと、 前記レチクルの高さを測定するレチクル高さセンサと、 感応基板を載置する感応基板チャックと、 前記レチクルにEUV光を照射し、レチクルで反射されたEUV光を前記感応基板に投影する光学系であって、該光学系の射出瞳の近傍に変形ミラーを有する光学系と、 前記レチクル高さセンサによって測定されたレチクルの高さに基づいて、前記光学系により感応基板上に形成されたレチクル像の収差を補正するように、前記変形レチクルチャックと前記変形ミラーを制御するコントローラと、を備えることを特徴とする収差補正システムとした。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

EUVリソグラフィーにおいて、収差を補正するためのシステムであって、 レチクルを載置する変形レチクルチャックと、 前記変形レチクルチャックに載置されたレチクルの高さを測定するレチクル高さセンサと、 感応基板を載置する感応基板チャックと、 前記変形レチクルチャックに載置されたレチクルにEUV光を照射し、レチクルで反射されたEUV光を前記感応基板チャックに載置された感応基板に投影する光学系であって、該光学系の射出瞳の近傍に変形ミラーを有する光学系と、 前記レチクル高さセンサによって測定されたレチクルの高さに基づいて、前記光学系により感応基板上に形成されたレチクル像の収差を補正するように、前記変形レチクルチャックと前記変形ミラーを制御するコントローラと、 を備えることを特徴とする収差補正システム。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531E ,  G03F7/20 502

Fターム (4件)：

2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  5F046GA12 ,  5F046GA14