特許
J-GLOBAL ID：200903016246020328

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
釜淵 明

釜淵 明 について

, 
山田 愛理

山田 愛理 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-013208
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287884
出願日： 2003年01月22日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】エキシマレーザーリソグラフィに適し、バランスよく感度が高くレジスト形状が良い化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、スルホニウム塩とを含有するレジスト組成物において、酸に不安定な基を持つ重合単位が、下式(Ia)で示される重合単位及び(Ib)で示される重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種であり、スルホニウム塩が下式(II)で示されるスルホニウム塩である化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(R1はメチル基又は水素原子。R2、R3、R4は、炭素数1〜6のアルキル基。)(Q1〜Q12は、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基。X-は対イオン。)
請求項（抜粋）：
酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、スルホニウム塩とを含有するレジスト組成物において、酸に不安定な基を持つ重合単位が、下式(Ia)で示される重合単位及び(Ib)で示される重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種であり、スルホニウム塩が下式(II)で示されるスルホニウム塩であることを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1はメチル基又は水素原子を表し、R2、R3、R4はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基を表す。)(式中、Q1〜Q12は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。X-は対イオンを表す。)
IPC (4件)：
G03F 7/004 503 ,  C08F 20/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/004 503 A ,  C08F 20/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (24件)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-003900   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-359321   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-153235   出願人：富士写真フイルム株式会社

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