特許
J-GLOBAL ID:200903016246771340
水素透過膜およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-306598
公開番号(公開出願番号):特開2003-112020
出願日: 2001年10月02日
公開日(公表日): 2003年04月15日
要約:
【要約】【課題】 水素透過膜の金属間の拡散による水素透過特性の低下を低減させることのできる技術を提供する。【解決手段】 水素透過膜234は、VA族元素を含む金属ベース層Laと、金属ベース層Laの2つの面の双方にそれぞれ形成され、NiとCoとのうちから選択された元素を含む2つの金属中間層Lb1,Lb2と、2つの金属中間層の金属ベース層が形成されていない面にそれぞれ形成され、Pdを含む2つの金属被覆層Lc1,Lc2と、を備えている。
請求項(抜粋):
水素を選択的に透過させる水素透過膜であって、VA族元素を含む金属ベース層と、前記金属ベース層の2つの面のうちの少なくとも一方に形成され、Ni(ニッケル)とCo(コバルト)とのうちから選択された元素を含む金属中間層と、前記金属中間層の2つの面のうち、前記金属ベース層が形成されていない面に形成され、Pd(パラジウム)を含む金属被覆層と、を備えることを特徴とする水素透過膜。
IPC (4件):
B01D 71/02 500
, B01D 53/22
, H01M 8/06
, C01B 3/56
FI (4件):
B01D 71/02 500
, B01D 53/22
, H01M 8/06 R
, C01B 3/56 Z
Fターム (18件):
4D006GA41
, 4D006MA06
, 4D006MC03X
, 4D006NA45
, 4D006NA50
, 4D006NA51
, 4D006PA03
, 4D006PB18
, 4D006PB66
, 4D006PC80
, 4G040FA06
, 4G040FC01
, 4G040FD04
, 4G040FD06
, 4G040FE01
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027BA16
引用特許:
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