特許
J-GLOBAL ID:200903016249471800

放射線架橋性高分子アクリラートまたはメタクリラートの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田代 烝治 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-528339
公開番号(公開出願番号):特表2001-506693
出願日: 1997年12月16日
公開日(公表日): 2001年05月22日
要約:
【要約】反応性側基を有するアクリラートまたはメタクリラート共重合体と、この反応性側基と反応可能な基および化学線の作用下にフリーラジカルを生成することが可能な基を有する化合物とを反応させることによる、放射線架橋性の高分子アクリラートおよびメタアクリラートの製造法が開示されている。重合体類似反応による変性された、光活性重合体の製造により、攻撃的な、特に合成された単量体、特にアクリル酸エステルの煩雑な処理を省略することが可能とされる。本方法による生成物は、放射線硬化型被覆材料として広く使用可能である。
請求項(抜粋):
反応性側基を有するアクリラートまたはメタクリラート共重合体と、この反応性側基と反応可能な基および化学線の作用下にフリーラジカルを生成することが可能な基を有する化合物とを反応させることによる、放射線架橋性の高分子アクリラートおよびメタクリラートの製造法。
IPC (3件):
C08F 8/00 ,  C08F 2/50 ,  C08F290/12
FI (3件):
C08F 8/00 ,  C08F 2/50 ,  C08F290/12

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