特許

J-GLOBAL ID：200903016250882016

照射型硬化装置

発明者： 中村 宏
出願人/特許権者： フュージョン・ユーブイ・システムズ・ジャパン株式会社
代理人 (1件)： 小橋 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-104949
公開番号（公開出願番号）：特開2003-300215
出願日： 2002年04月08日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】不活性ガスの消費量を著しく減少させることを可能とした照射型硬化装置の提供。【解決手段】被処理物体は搬送ベルト22上に載置されて搬送され、処理チャンバ3の区域において紫外線が照射されて硬化処理が行なわれる。処理チャンバ3及び入口チャンバ4の少なくとも一方に窒素等の不活性ガスが外部から供給され、該不活性ガスは入口チャンバ4及び出口チャンバ5内に蓄積されて処理チャンバ3内の不活性ガスの純度を所定のレベルに一定状態に維持させる。入口チャンバ及び出口チャンの少なくとも一方に複数個の仕切板を配設して該チャンバ内の空洞を複数個の区画室に分割することにより、又出口チャンバの出口近傍にエアーカーテンを形成させることにより、処理チャンバ内の不活性ガス雰囲気は更に安定化される。

請求項（抜粋）：

照射型硬化装置において、所定の経路に沿って被処理物体を搬送する搬送手段、前記所定の経路の上方に位置されており前記被処理物体に対して所定波長の電磁波を照射して硬化処理を行うために下部を少なくとも部分的に開放した処理チャンバ、前記所定の経路の上方で且つ前記処理チャンバの入口側に隣接して位置されており下部を少なくとも部分的に開放した入口チャンバ、前記入口チャンバ又は前記処理チャンバの少なくとも一方へ不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段、を有していることを特徴とする照射型硬化装置。

Fターム (7件)：

4F203AA44 ,  4F203AG03 ,  4F203AM25 ,  4F203DA12 ,  4F203DC07 ,  4F203DJ01 ,  4F203DN01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-235793
  
• 特開昭50-083435
  
• 気体分離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-277328   出願人：トキコ株式会社
• 特開平4-018791