特許
J-GLOBAL ID：200903016258116487
ガスおよび材料を処理する誘導結合環状プラズマ源装置およびその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-516213
公開番号（公開出願番号）：特表2003-506888
出願日： 2000年08月07日
公開日（公表日）： 2003年02月18日
要約：
【要約】流体(20)によって直接冷却される中空金属ハウジング(1)内に閉路二次プラズマ電流(13)を生成するために、変圧器(30)を利用する新規な誘導結合プラズマ源装置を提供する。このプラズマ源装置は、高電力密度を必要とし得る種々のプラズマに関連する処理を促進するために、高電荷粒子密度のイオン、電子および化学的に活性な化学種を生成するのに特に有効である。中空金属真空チャンバ(2)は、誘電体ギャップ(16)によって金属真空チャンバおよび処理チャンバ(5)に接続されるが電気的に絶縁されている。この誘電体ギャップ(16)が、プラズマ本体を直接曝すことのないように十分に遮蔽される。電子、フォトンおよび励起ガス化学種は、金属中空チャンバおよび処理チャンバ内で生成されて、広範な材料、表面およびガス処理用途に役立つ。
請求項（抜粋）：
材料のプラズマ支援処理装置であって、 金属中空チャンバであって、内部に位置するプラットフォーム上に取り付けられたワークピースのプラズマ支援処理のために、金属処理チャンバと連絡する真空チャンバを規定する、金属中空チャンバと、 該中空金属真空チャンバと該金属処理チャンバとの間の誘電体ブレークと、 該真空チャンバ内に電場を生成するように、該中空金属真空チャンバと一次巻線を有する金属処理チャンバの周りに配置された電気変圧器と、 該ワークピースを処理するために該真空チャンバにガスを送達するガス入力と、 該真空チャンバからガスを排気するガス出力と、 該電気変圧器の該一次コイルに接続されたAC電源であって、該真空チャンバに電力を供給して、該変圧器への単一巻回の二次電流として作用し、かつ該真空チャンバ内を流れる閉路プラズマ電流を維持する、AC電源と を備える、材料のプラズマ支援処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, H01J 37/32
, H05H 1/46
H01J 37/32
, H05H 1/46 L
, H05H 1/46 R
, H01L 21/302 101 C
5F004AA16
, 5F004BA03
, 5F004BA20
