特許
J-GLOBAL ID：200903016259081148
パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-001181
公開番号（公開出願番号）：特開平10-197463
出願日： 1997年01月08日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 高感度な欠陥検出性能を維持しつつ、MCPの寿命を向上させ、低コストで高速処理を可能とするパターン検査装置を提供する。【解決手段】 試料面上に電子ビームを照射する照射手段3と、前記試料を前記電子ビーム照射面に移動するX-Yステージ7と、該X-Yステージの位置を検出する位置検出手段9と、前記電子ビームにより照射された試料面からの二次電子、反射電子及び後方散乱電子のうち少なくとも1つを試料画像ビームとして検出する電子検出器5と、前記試料画像ビームを前記電子検出器上に試料像として結像させる投影型電子光学系4とを有する試料のパターンを検査するパターン検査装置であって、前記ステージの移動方向変化に応じて前記投影型電子光学系を制御することにより前記電子検出器上に結像された試料像を反転させて、試料面上のパターンを連続検査する構成である。
請求項（抜粋）：
試料面上に電子ビームを照射する照射手段と、前記試料を前記電子ビーム照射面に移動するX-Yステージと、該X-Yステージの位置を検出する位置検出手段と、前記電子ビームにより照射された試料面からの二次電子、反射電子及び後方散乱電子のうち少なくとも1つを試料画像ビームとして検出する電子検出器と、前記試料画像ビームを前記電子検出器上に試料像として結像させる投影型電子光学系とを有する試料のパターンを検査するパターン検査装置であって、前記ステージの移動方向変化に応じて前記投影型電子光学系を制御することにより前記電子検出器上に結像された試料像を反転させて、試料面上のパターンを連続検査することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (6件)：
G01N 23/225
, G01B 15/00
, G01N 23/20
, G01R 31/302
, H01J 37/28
, H01L 21/66
G01N 23/225
, G01B 15/00 B
, G01N 23/20
, H01J 37/28 B
, H01L 21/66 J
, G01R 31/28 L
