特許
J-GLOBAL ID：200903016261322373
ポジ型レジスト組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-316501
公開番号（公開出願番号）：特開平5-150450
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】 γ値、プロファイル及び塗布性等の諸性能に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 ピルビン酸アルキルエステル並びに(a)γ-ブチロラクトン、(b)乳酸エチル及び(c)γ-ブチロラクトン/乳酸エチル混合溶媒の中のいずれか1種を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
ピルビン酸アルキルエステル並びに、(a)γ-ブチロラクトン、(b)乳酸エチル及び(c)γ-ブチロラクトン/乳酸エチル混合溶媒の中のいずれか一種を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
前のページに戻る
