特許
J-GLOBAL ID:200903016269272472

安定した低圧グロープロセスを実行するための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三澤 正義
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-513673
公開番号(公開出願番号):特表平8-508362
出願日: 1993年12月15日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】1.放電を安定化し、特にアーク放電を回避するための、安定した低圧グロープロセスを実行するための方法である。2.1.公知の方法および装置は、電気的なパラメータをチェックすることによりアーク放電をモニタする。発散の場合、エネルギー供給が絶たれる。本発明の結果、アークは形成される前に防止され、グロープロセスが長期間安定となる。2.2.本発明によれば、グロープロセスは再生位相により中断される。その開始および終了の時間は、値の測定により決定され、これは実験的に決定された所望のプラズマ状態の値と比較される。2.3.本発明は表面のプラズマ処理、プラズマからの被覆蒸着およびプラズマ補助により表面洗浄などの技術に使用される。
請求項(抜粋):
直流電流供給が加えられ、放電のエネルギー供給が妨害または変更することが可能であり、またその内部において基体のプラズマ補助による被覆または表面処理のためのプラズマ状態を計測することが可能であるバキュオ(vacuo)内の安定した低圧グロープロセスを実行するための方法において、公知の方法により実行されるグロープロセスが再生位相により中断され、その後にグロープロセスが継続され、再生位相の開始および/または終了の時間が計測値を実験的に決定した所望のプラズマ状態を特徴付けた量の値と比較することで決定され、再生位相を開始するためにグロー放電に対するエネルギー供給が中断または変更され、再生位相の時間が1μsと同じまたはそれより長く選択され、並びにグロー位相から再生位相への変換およびこの逆が本方法の実行の間に常に繰り返されることを特徴とする方法。
IPC (7件):
H05H 1/46 ,  C23C 14/34 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/00
FI (8件):
H05H 1/46 M ,  C23C 14/34 U ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 D ,  H05H 1/00 A ,  H01L 21/302 A ,  H01L 21/302 N

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