特許
J-GLOBAL ID：200903016270255018

現像方法、及び、現像装置

発明者：
吉野 宏

吉野 宏 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 古溝 聡 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-176207
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005189
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：
【要約】【課題】 レジストを高い精度でパターニングする。【解決手段】 PEBユニット20は、基板上に形成され、所定のパターンで露光されたレジストにPEB(露光後ベーク)処理を施す。クーリングユニット30は、PEB処理を施されたレジストをクーリングしてレジストの化学反応を抑制する。現像ユニット40は、クーリング処理を施されたレジストを現像する。PEB前待機時間調整ユニット60は、PEB処理を施された所定枚数のレジストがPEB処理後の処理を順次施され、且つ放置されることのないように、PEB処理後に行われる処理の終了時刻からPEB処理の開始時刻を算出して、PEBユニット20にセットする。PEBユニット20は、露光後待機ユニット10から基板を搬送された後、上記開始時刻にPEB処理を開始する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成され、所定のパターンで露光されたレジストに施す熱処理の開始時刻を、該熱処理後に行われる処理の終了時刻に応じて設定する開始時刻設定工程と、前記開始時刻に、露光された前記レジストへの熱処理を開始し、所定時間、該レジストに熱処理を施す熱処理工程と、前記熱処理工程後に行われ、熱処理を施された前記レジストを現像する現像工程と、を備えることを特徴とする現像方法。
IPC (6件)：
G03F 7/26 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/26 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 569 F
Fターム (28件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA15 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA20 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096FA10 ,  2H096GA02 ,  2H096GA29 ,  2H096GB01 ,  2H096GB07 ,  2H096HA01 ,  2H096JA03 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (5件)
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