特許

J-GLOBAL ID：200903016276100180

基板の洗浄装置、洗浄方法および洗浄システム

発明者： 小柳 哲雄 ,  半井 正澄
出願人/特許権者： 株式会社エスエムティー ,  株式会社セミテクノ
代理人 (1件)： 佐野 章吾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-128537
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300445
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：

【要約】【課題】 工場内での設置面積を小さくして、工場スペースを有効利用することができる基板の洗浄装置および洗浄技術を提供する。【解決手段】 処理工程進行方向に沿って2列の洗浄槽列12,13を配置するとともに、複数枚の基板を一括して前記各洗浄槽に順次浸漬して洗浄するために、基板搬送ロボット15を前記処理工程進行方向と、この処理工程進行方向に直交する方向とに移動可能なように構成し、装置の設置スペースの縮小化を図られる。

請求項（抜粋）：

処理工程進行方向に沿って多列に洗浄槽が配置するとともに、複数枚の基板を一括して前記洗浄槽に順次浸漬して洗浄するために、基板搬送ロボットを前記処理工程進行方向と、この処理工程進行方向に直交する方向とに移動可能なように構成したことを特徴とする基板の洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/04 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/68

FI (8件)：

B08B 3/08 Z ,  B08B 3/04 B ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 648 B ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 D ,  H01L 21/68 S

Fターム (38件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB44 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CB15 ,  3B201CC12 ,  3B201CD11 ,  3B201CD34 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA11 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA24 ,  5F031GA13 ,  5F031GA14 ,  5F031GA15 ,  5F031GA48 ,  5F031LA12 ,  5F031LA13 ,  5F031LA15 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031NA03 ,  5F031NA16 ,  5F031NA18 ,  5F031PA24