特許
J-GLOBAL ID:200903016293227119
ジアルキルトリスルフィドの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 勝利
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-186434
公開番号(公開出願番号):特開2003-002876
出願日: 2001年06月20日
公開日(公表日): 2003年01月08日
要約:
【要約】【課題】ジアルキルトリスルフィドを選択的に高収率で得る製造方法を提供する。【解決手段】結合硫黄原子数の平均が4以上のジアルキルポリスルフィドと、アルキルメルカプタンとを、触媒存在下で反応させるジアルキルトリスルフィドの製造方法において、触媒を分割添加することを特徴とするジアルキルトリスルフィドの製造方法。
請求項(抜粋):
結合硫黄原子数の平均が4以上のジアルキルポリスルフィドと、アルキルメルカプタンとを、触媒存在下で反応させるジアルキルトリスルフィドの製造方法において、触媒を分割添加することを特徴とするジアルキルトリスルフィドの製造方法。
IPC (3件):
C07C319/24
, C07C321/14
, C07B 61/00 300
FI (3件):
C07C319/24
, C07C321/14
, C07B 61/00 300
Fターム (13件):
4H006AA02
, 4H006AC13
, 4H006AC63
, 4H006BA06
, 4H006BA09
, 4H006BA29
, 4H006BA30
, 4H006BA32
, 4H006BC34
, 4H006TA04
, 4H039CA61
, 4H039CD10
, 4H039CD60
引用特許: