特許

J-GLOBAL ID：200903016296315892

研磨方法

発明者： 安藤 学
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-173360
公開番号（公開出願番号）：特開平8-019943
出願日： 1994年07月01日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】 結晶材料からなる被研磨物の良好な表面粗さを実現できるようにする。【構成】 直径75mm、厚さ15mmのCaF2 材からエキシマレーザ用ウインドウ素子を従来の方法で平面研磨した。ついで、精製水2リットルに平均粒径0.2μmのダイヤモンド砥粒を重量濃度で0.05%撹拌した研磨液中にCaF2 の微粉末16mg(飽和溶解量に対して50%)を加え24時間撹拌した研磨液を用いて液中研磨を実施した。この液中研磨条件は、研磨皿の下軸を7rpm、CaF2 材を支持する上軸5cycle/min、研磨荷重は自重のみとし、無人で16時間研磨した。得られた被研磨面を観察したところ表面粗さ0.10nm rms程度の超平滑面が得られた。

請求項（抜粋）：

研磨液中において結晶材料からなる被研磨物と研磨工具とを相対運動させて研磨する液中研磨において、溶媒の一定量あたりの前記被研磨物を構成する結晶材料の飽和溶解重量を100パーセントの溶解度としたとき、前記被研磨物を構成する結晶材料を前記溶媒中に溶解度50パーセント以上溶解させた溶液に研磨剤砥粒を分散撹拌した研磨液を用いることを特徴とする研磨方法。

IPC (3件)：

B24B 1/00 ,  B24B 13/00 ,  C09K 3/14 550