光等方性剥離シート

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大石征郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-352615
公開番号（公開出願番号）：特開平6-174925
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】光等方性はもとより、耐ソルベント性、耐熱性、剥離剤に対するアンカー性を兼ね備え、しかも製造コストの上昇も抑えられる光等方性剥離シートを提供することを目的とする。【構成】単層または複層の高分子層からなる光等方性ベースシート(11)上に金属酸化物層(12)を設け、さらにその金属酸化物層(12)上に剥離剤層(13)を形成した層構成を有する光等方性剥離シートである。金属酸化物層(12)は、SiOx (ただし、1<x<2)で示される酸化ケイ素の層であることが好ましい。この光等方性剥離シートは、偏光板や位相差板などの光学用部材上に設ける粘着剤層の上から被覆する目的に適している。

請求項（抜粋）：

単層または複層の高分子層からなる光等方性ベースシート(11)上に金属酸化物層(12)を設け、さらにその金属酸化物層(12)上に剥離剤層(13)を形成した層構成を有する光等方性剥離シート。

IPC (3件)：

G02B 5/30 , B32B 7/02 103 , B32B 7/06

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平3-148603
特開昭60-159706
特開昭61-193127

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審査官引用 (3件)

特開平3-148603
特開昭60-159706
特開昭61-193127

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