特許
J-GLOBAL ID：200903016307621036
イオン打込み装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-274046
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130496
出願日： 1993年11月02日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：
【要約】【構成】電極間のプラズマ1に共鳴する周波数を制御して、常に同一の周波数の高周波を印加して、イオンを引き出し打込む。電極間のプラズマに共鳴する周波数を制御する手段に、整合器6と電極との間に可変コンデンサおよび/または可変コイル、電極に直列に設置した回路を設ける。プラズマ密度,電子温度,イオン温度,磁場強度等が変化して、電極間の共鳴周波数が変化しても追加した可変コンデンサまたは可変コイルによりその変動分を補正し、元の周波数のままで共鳴を維持する。【効果】電極間のプラズマが変動しても、共鳴周波数を維持でき、効率よくイオンを打込むことができる。
請求項（抜粋）：
プラズマからイオンを引き出すために、一組の電極間のプラズマに共鳴する高周波を印加する高周波印加装置と、前記高周波印加装置からの高周波が電極から反射するのを抑えるためにインピーダンス整合をとる整合器と、プラズマからのイオンを打込むために高周波を印加するイオン打込み電極とからなるイオン打ち込み装置において、整合器とイオン打込み電極との間に共鳴周波数を制御するための回路を設けることを特徴とするイオン打込み装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23C 14/48
, H01J 27/18
, H01J 37/08
, H01J 37/317
