特許

J-GLOBAL ID：200903016316818772

デカヒドロナフタレンジカルボン酸ジアルキルエステルの製造方法

発明者： 谷口 貢 ,  久古 陽一 ,  伏見 則夫 ,  高川 實
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-026471
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226356
出願日： 1999年02月03日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】ナフタレンジカルボン酸ジアルキルエステルの水素化によりデカヒドロナフタレンジカルボン酸ジアルキルエステル、特に trans異性体を高い割合で含有する該エステルを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】水素化に不活性な溶媒とルテニウム触媒の存在下、ナフタレンジカルボン酸ジアルキルエステルを水素化する。

請求項（抜粋）：

水素化に不活性な溶媒とルテニウム系触媒の存在下、ナフタレンジカルボン酸ジアルキルエステルを水素化することを特徴とするデカヒドロナフタレンジカルボン酸ジアルキルエステルの製造方法。

IPC (2件)：

C07C 67/303 ,  C07C 69/753

FI (2件)：

C07C 67/303 ,  C07C 69/753 Z

Fターム (16件)：

4H006AA02 ,  4H006BA23 ,  4H006BA32 ,  4H006BA68 ,  4H006BA71 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB17 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC40 ,  4H006BJ30 ,  4H006BT22 ,  4H006FC24